圖像冠層分析儀 型號： GC02

一、功能   

廣泛適用于農(nóng)業(yè)、園藝、林業(yè)領域有關栽培、育種、 植物群體對比與發(fā)展的研究與教學中農(nóng)作物、果樹、森林內(nèi)冠層受光狀況的測量和分析。能測算植物冠層的太陽直射光透過率、天空散射光透過率、冠層的消光系數(shù)，葉面積指數(shù)和葉片平均傾角等。

二、原理和方法

  采用了冠層孔隙率與冠層結構相關的原理。它是根據(jù)光線穿過介質減弱的比爾定律，在對植物冠層定義了一系列假設前提的條件下，采用半理論半經(jīng)驗的公式，通過冠層孔隙率的測定，計算出冠層結構參數(shù)。采用的是對冠層下天穹半球圖像分析測量冠層孔隙率的方法。

三、特點

1.非破壞性地測定冠層結構,自動水平調整探頭，

2. 圖像分析軟件可以任意定義圖像分析區(qū)域（天頂角可分10區(qū)，方位角可分10區(qū)）。對不同方向的冠層進行區(qū)域性分析時，可以任意屏蔽地物景像和不合理的冠層部分（如缺株、邊行問題等）。

四、技術參數(shù)

1.鏡頭角度：150°

2.分辨率：768×494pix

3.測量范圍：天頂角由0°～75°（150°魚眼鏡頭）可分割成十個區(qū)域，方位角360°亦可分割成十個區(qū)域。

4．PAR感應范圍：感應光譜400～700nm。   測量范圍0～2700μmol/m2•s

5.分析軟件：專業(yè)ECA-GC02軟件。

6.電 池：7.4V\5.6AH。

9.工作溫度：0～55℃